研發成果授權流程
以公開公平方式進行： 以公告的方式進行技轉資訊之公開，讓每個廠商皆有公平機會參與授權。
以有償授權為原則： 凡技轉授權以營利者均收取授權金，若有產品上市者得另收衍生利益金。
以非專屬授權為原則： 為達到技術擴散目的，以授權予多家廠商為原則。若有為了避免產業不當競爭致妨礙產業發展、因技轉後之開發須經政府長期審核始能上市，或須投入鉅額資金以商品化等情事，需經本校審議通過，方可予以專屬授權。
授權期限： 以能充分實行並發揮技術價值為原則，並需有明確授權起迄日。
行政流程
a.三方確認合約內容無誤後，由產學運籌中心製作合約，請創作人代表及合作廠商用印。
b.產學運籌中心上簽用校印，並會辦創作人及其所屬單位。
c.完成三方用印後，由產學運籌中心向合作廠商請款及進行後續收入分配。
合作廠商、創作人代表與本校需簽署三方合約，範本如下：
- 技術授權合約書範本 ：本校師生之研究成果以掌握營業秘密、know-how、技術等方式保護，欲授權他人使用、實施時，請參考使用本範本。本範本內容包含專屬、非專屬等授權模式。
- 專利權轉讓合約範本 ：本校之專利權欲轉讓予他人使用、實施時，請參考使用本範本。
創作人代表需簽署：技術授權資料表及利益衝突迴避及資訊揭露聲明書
112年2月15日之後簽約：
|
成果來源 |
創作人 |
學校 |
院系所/中心 |
政府 |
|
政府補助 |
72% |
8% |
— |
20% |
|
無計畫 |
75% |
20% |
5% |
— |
109年8月1日~112年2月14日簽約：
|
成果來源 |
創作人 |
學校 |
院系所/中心 |
政府 |
|
政府補助 |
70% |
10% |
— |
20% |
|
無計畫 |
75% |
20% |
5% |
— |
109年7月31日之前簽約
| 成果來源 |
創作人 |
學校 |
院系所/中心 |
政府 |
專利 |
|
|
專利 |
技術 |
|||||
|
政府補助 |
50% |
70% |
10% |
— |
20% |
20% |
|
無計畫 |
45% |
80% |
15% |
5% |
— |
35% |
註1. 109年7月1日起簽約案件需另計5%營業稅（不含境外公司）
聯絡窗口
技術媒合推廣、技轉合約洽談及簽署(電機、半導體、資訊等領域)
技術媒合推廣、技轉合約洽談及簽署(工、理、智慧綠能、管理等領域)
*交大校區*授權合約用印請款、分配權利金
綜理智權相關業務、技術媒合推廣、技轉合約洽談及簽署(醫、生醫工程、生科、藥科等領域)
技術媒合推廣、技轉合約洽談及簽署、專利申請、共有管理業務(生科、光電、護理、牙醫等領域)